Для заказчика разработан и изготовлен полуавтомат плазмохимического удаления фоторезиста "Плазма-150МТ".

Установка предназначенна для для удаления  фоторезистивных масок в технологии производства изделий электронной техники и МЭМС после операций формирования топологического рисунка, с пластин диаметром 100,150 мм. Плазмохимическая очистка поверхности металлических и металлокерамических изделий применяемых в электронной технике.

Полуавтомат плазмохимического удаления фоторезиста Плазма-150МТ