НАЗНАЧЕНИЕ:
Нанесение фоторезистивных плёнок на гладкую и рельефную поверхность пластин и подложек, с последующей термообработкой.
Состав установки:
- Модуль нанесения фоторезиста;
- Блок электрический;
- Система управления установкой;
- Система термообработки фоторезиста;
- Емкость для растворителя;
- Емкость для сбора отработанного фоторезиста.
Технологические возможности установки:
- Подача фоторезиста на пластину в статическом и динамическом режимах (сканирование);
- Подача фоторезиста насосом-дозатором;
- Удаление фоторезиста с торца пластин *;
- Удаление краевого валика *;
- Автоматическая промывка ванны растворителем;
- Автоматически регулируемая вытяжная система модуля нанесения.
* - данные опции выполняются только при обработке пластин круглой формы.
ФУНКЦИОНАЛЬНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ И ОСОБЕННОСТИ:
- Нанесение фоторезистивных пленок методом центрифугирования;
- Термообработка фоторезистивных пленок на «горячей плите»;
- Индивидуальная обработка подложек;
- Быстрая переналадка на любой размер подложки в пределах, указанных в технических данных на установку;
- Автоматическое регулирование вытяжной системы модуля нанесения;
- Установка соответствует требованиям эксплуатации в помещениях класса Р(10)100 («чистое помещение» класса 5 ИСО по ГОСТ Р ИСО 14644-1-2002).
ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ:
| ХАРАКТЕРИСТИКИ |
Ед. изм. |
«НФТО-150П» |
| Диаметр обрабатываемых пластин |
мм |
51, 76, 100, 150 |
| Размер обрабатываемых подложек |
мм |
25х25, 48х60, 76х76, 102х102 |
| Диапазон задания скорости вращения ротора центрифуги |
об/мин. |
300 ÷ 7000 |
| Дискретность скорости вращения ротора центрифуги |
об/мин. |
10 |
| Диапазон задания ускорения вращения ротора центрифуги |
(об/мин.)/с |
10 ÷ 10000 |
| Дискретность ускорения ротора центрифуги |
(об/мин.)/с |
100 |
| Диапазон и точность поддержания температуры плиты: |
|
|
| 70 ÷ 120 |
°С |
± 0,3 |
| 120 ÷ 150 |
± 0,5 |
| 150 ÷ 200 |
± 1 |
| Величина зазора, на котором проводится термообработка |
мм |
0 ÷ 0,15 |
| Диапазон задания времени обработки |
с |
1,0 ÷ 999 |
| Дискретность задания времени обработки |
с |
1 |
| Диапазон дозирования фоторезиста |
мл |
0,5 ÷ 5,0 |
| Электропитание: |
|
|
| - сеть переменного тока |
В |
380/220 |
| - частота |
Гц |
50 |
| Мощность потребляемая установкой |
кВт |
2,5 |
| Габаритные размеры (ДxШxВ) |
мм |
610 х 480 х 1075 |
