НАЗНАЧЕНИЕ:
Линия химической обработки полупроводниковых пластин предназначена для химической обработки полупроводниковых пластин диаметром 76 мм и 100 мм в растворах фтористоводородной (плавиковой), серной, азотной кислот и их смесей, с последующей промывкой в деионизованной воде.
ОСОБЕННОСТИ:
- Линия состоит из двух модулей, трех шкафов подачи химических реактивов и одного шкафа для подогрева деионизованной воды;
- Управление модулями линии на основе пневмо-гидравлических элементов;
- Ванны химической обработки (ХО) выполнены из фторопласта. Объем 6 л. Оснащены системой «азотный нож». Наполнение ванны деионизованной водой (ДВ) и реактивами осуществляется при помощи пневмоуправляемых химически стойких клапанов;
- Нагрев реактива в ванне ХО осуществляется посредством двух фторопластовых погружных нагревателей напряжением электропитания 24 В и потребляемой мощности 500 Вт;
- Аварийный контроль верхнего уровня реактива с помощью химически стойкого высоко-температурного поплавкового датчика, а нижнего уровня реактива с помощью выключателя;
- Контроль рабочего уровня реактива с помощью прецизионного датчика давления;
- Слив отработанного раствора в КЩК осуществляется смесителем эжекторного типа;
- Стоп-ванна выполнена из полипропилена. Объем 6 л. Наполнение стоп-ванны ДВ через пневмоуправляемые клапаны (душ и донный);
- Слив отработанной ДВ в соответствующий трубопровод через пневмоуправляемый клапан;
- Ванны промывки выполнены из полипропилена. Объем 6 л. Наполнение ванны промывки ДВ через пневмоуправляемый клапан. Ванна промывки обладает двумя донными линейными форсунками для барботирования;
- Слив отработанной ДВ в соответствующий трубопровод через верхний специальный бортовой канал, сопротивление отработанной ДВ определяется датчиком кондуктометра и прибором Сириус;
- Блок нагрева ДВ включает в себя три термостата с теплообменниками;
- Блок подачи химраствора обеспечивает подачу и фильтрацию химреактива из емкости с подготовленным реактивом в соответствующую ванну химической обработки.
