Линия химической обработки полупроводниковых пластин "ЛАДА-М 2.6.100"

Линия химической обработки полупроводниковых пластин "ЛАДА-М 2.6.100"

НАЗНАЧЕНИЕ:

Линия химической обработки полупроводниковых пластин предназначена для химической обработки полупроводниковых пластин диаметром 76 мм и 100 мм в растворах фтористоводородной (плавиковой), серной, азотной кислот и их смесей, с последующей промывкой в деионизованной воде.

Teh

ОСОБЕННОСТИ:

  • Линия состоит из двух модулей, трех шкафов подачи химических реактивов и одного шкафа для подогрева деионизованной воды;
  • Управление модулями линии на основе пневмо-гидравлических элементов;
  • Ванны химической обработки (ХО) выполнены из фторопласта. Объем 6 л. Оснащены системой «азотный нож». Наполнение ванны деионизованной водой (ДВ) и реактивами осуществляется при помощи пневмоуправляемых химически стойких клапанов;
  • Нагрев реактива в ванне ХО осуществляется посредством двух фторопластовых погружных нагревателей напряжением электропитания 24 В и потребляемой мощности 500 Вт;
  • Аварийный контроль верхнего уровня реактива с помощью химически стойкого высоко-температурного поплавкового датчика, а нижнего уровня реактива с помощью выключателя;
  • Контроль рабочего уровня реактива с помощью прецизионного датчика давления;
  • Слив отработанного раствора в КЩК осуществляется смесителем эжекторного типа;
  • Стоп-ванна выполнена из полипропилена. Объем 6 л. Наполнение стоп-ванны ДВ через пневмоуправляемые клапаны (душ и донный);
  • Слив отработанной ДВ в соответствующий трубопровод через пневмоуправляемый клапан;
  • Ванны промывки выполнены из полипропилена. Объем 6 л. Наполнение ванны промывки ДВ через пневмоуправляемый клапан. Ванна промывки обладает двумя донными линейными форсунками для барботирования;
  • Слив отработанной ДВ в соответствующий трубопровод через верхний специальный бортовой канал, сопротивление отработанной ДВ определяется датчиком кондуктометра и прибором Сириус;
  • Блок нагрева ДВ включает в себя три термостата с теплообменниками;
  • Блок подачи химраствора обеспечивает подачу и фильтрацию химреактива из емкости с подготовленным реактивом в соответствующую ванну химической обработки.

Teh