Оборудование разработано в рамках комплексного проекта «Разработка и организация производства кластерных линий фотолитографии с концепцией объединения всех операций формирования фоторезистивной маски в едином модуле» на основании Договора о предоставлении субсидии на возмещение части затрат на создание научно-технического задела по разработке базовых технологий производства приоритетных электронных компонентов и радиоэлектронной аппаратуры № 16411.1950168580.11.001 от 17 октября 2016 г."
НАЗНАЧЕНИЕ:
Нанесение фоторезистивных плёнок на гладкую и рельефную поверхность пластин и подложек, с последующей термообработкой.
Состав установки:
- Модуль нанесения фоторезиста;
- Блок электрический;
- Система управления установкой;
- Система термообработки фоторезиста;
- Емкость для растворителя;
- Емкость для сбора отработанного фоторезиста.
Технологические возможности установки:
- Подача фоторезиста на пластину в статическом и динамическом режимах (сканирование);
- Подача фоторезиста насосом-дозатором;
- Удаление фоторезиста с торца пластин *;
- Удаление краевого валика *;
- Автоматическая промывка ванны растворителем;
- Автоматически регулируемая вытяжная система модуля нанесения.
* - данные опции выполняются только при обработке пластин круглой формы.
ФУНКЦИОНАЛЬНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ И ОСОБЕННОСТИ:
- Нанесение фоторезистивных пленок методом центрифугирования;
- Термообработка фоторезистивных пленок на «горячей плите»;
- Индивидуальная обработка подложек;
- Быстрая переналадка на любой размер подложки в пределах, указанных в технических данных на установку;
- Автоматическое регулирование вытяжной системы модуля нанесения;
- Установка соответствует требованиям эксплуатации в помещениях класса Р(10)100 («чистое помещение» класса 5 ИСО по ГОСТ Р ИСО 14644-1-2002).
ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ:
| ХАРАКТЕРИСТИКИ
|
Ед. изм.
|
«НФТО-150П»
|
| Диаметр обрабатываемых пластин |
мм |
51, 76, 100, 150
|
| Размер обрабатываемых подложек |
мм |
25х25, 48х60, 76х76, 102х102
|
| Диапазон задания скорости вращения ротора центрифуги |
об/мин. |
300 ÷ 7000
|
| Дискретность скорости вращения ротора центрифуги |
об/мин. |
10
|
| Диапазон задания ускорения вращения ротора центрифуги |
(об/мин.)/с |
10 ÷ 10000
|
| Дискретность ускорения ротора центрифуги |
(об/мин.)/с |
100
|
| Диапазон и точность поддержания температуры плиты: |
|
|
| 70 ÷ 120
|
°С |
± 0,3
|
| 120 ÷ 150
|
± 0,5
|
| 150 ÷ 200
|
± 1
|
| Величина зазора, на котором проводится термообработка |
мм |
0 ÷ 0,15
|
| Диапазон задания времени обработки |
с |
1,0 ÷ 999
|
| Дискретность задания времени обработки |
с |
1
|
| Диапазон дозирования фоторезиста |
мл |
0,5 ÷ 5,0
|
| Электропитание: |
|
|
| - сеть переменного тока |
В |
380/220
|
| - частота |
Гц |
50
|
| Мощность потребляемая установкой |
кВт |
2,5
|
| Габаритные размеры (ДxШxВ) |
мм |
610 х 480 х 1075
|
