НАЗНАЧЕНИЕ:
Нанесение фоторезистивных плёнок на гладкую и рельефную поверхность пластин и подложек.
Состав установки:
- Модуль нанесения фоторезиста;
- Блок электрический;
- Система управления установкой;
- Емкость для растворителя;
- Емкость для сбора отработанного фоторезиста.
Технологические возможности установки:
- Подача фоторезиста на пластину в статическом и динамическом режимах (сканирование);
- Подача фоторезиста насосом-дозатором;
- Удаление фоторезиста с торца пластин;*
- Удаление краевого валика;*
- Автоматическая промывка ванны растворителем;
- Автоматически регулируемая вытяжная система модуля нанесения.
* - данные опции выполняются только при обработке пластин круглой формы.
ФУНКЦИОНАЛЬНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ И ОСОБЕННОСТИ:
- Нанесение фоторезистивных пленок методом центрифугирования;
- Установка соответствует требованиям эксплуатации в помещениях класса Р(10)100 («чистое помещение» класса 5 ИСО по ГОСТ Р ИСО 14644-1-2002).
ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ:
ХАРАКТЕРИСТИКИ |
Ед. изм. |
«НФ-150П» |
Диаметр обрабатываемых пластин |
мм |
51, 76, 100, 150 |
Размер обрабатываемых подложек |
мм |
25х25, 48х60, 76х76, 102х102 |
Диапазон задания скорости вращения ротора центрифуги |
об./мин |
300 ÷ 7000 |
Дискретность скорости вращения ротора центрифуги |
об./мин |
10 |
Диапазон задания ускорения вращения ротора центрифуги |
(об/мин.)/с |
10 ÷ 10000 |
Дискретность ускорения ротора центрифуги |
(об/мин.)/с |
100 |
Диапазон дозирования фоторезиста |
мл |
0,5 ÷ 5,0 |
Электропитание: |
|
|
- сеть переменного тока |
В |
380/220 |
- частота |
Гц |
50 |
Мощность потребляемая установкой |
кВт |
2,5 |
Габаритные размеры установки (ДxШxВ) |
мм |
905 х 459 х 1090 |