Полуавтоматическая установка нанесения фоторезиста НФ-150П

Оборудование разработано в рамках комплексного проекта «Разработка и организация производства кластерных линий фотолитографии с концепцией объединения всех операций формирования фоторезистивной маски в едином модуле» на основании Договора о предоставлении субсидии на возмещение части затрат на создание научно-технического задела по разработке базовых технологий производства приоритетных электронных компонентов и радиоэлектронной аппаратуры № 16411.1950168580.11.001 от 17 октября 2016 г."

НАЗНАЧЕНИЕ:

Нанесение фоторезистивных плёнок на гладкую и рельефную поверхность пластин и подложек.

Состав установки:

• Модуль нанесения фоторезиста;
• Блок электрический;
• Система управления установкой;
• Емкость для растворителя;
• Емкость для сбора отработанного фоторезиста.

Технологические возможности установки:

• Подача фоторезиста на пластину в статическом и динамическом режимах (сканирование);
• Подача фоторезиста насосом-дозатором;
• Удаление фоторезиста с торца пластин;*
• Удаление краевого валика;*
• Автоматическая промывка ванны растворителем;
• Автоматически регулируемая вытяжная система модуля нанесения.

 * - данные опции выполняются только при обработке пластин круглой формы.

ФУНКЦИОНАЛЬНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ И ОСОБЕННОСТИ:

• Нанесение фоторезистивных пленок методом центрифугирования;
• Установка соответствует требованиям эксплуатации в помещениях класса Р(10)100 («чистое помещение» класса 5 ИСО по ГОСТ Р ИСО 14644-1-2002).

ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ: