Полуавтоматическая установка проявления фоторезиста с термообработкой ПФТО-150П

Оборудование разработано в рамках комплексного проекта «Разработка и организация производства кластерных линий фотолитографии с концепцией объединения всех операций формирования фоторезистивной маски в едином модуле» на основании Договора о предоставлении субсидии на возмещение части затрат на создание научно-технического задела по разработке базовых технологий производства приоритетных электронных компонентов и радиоэлектронной аппаратуры № 16411.1950168580.11.001 от 17 октября 2016 г."

НАЗНАЧЕНИЕ:

Проявление фоторезистивных пленок на гладких и рельефных поверхностях пластин и подложках с последующей термообработкой.

Состав установки:

• Модуль проявления фоторезиста;
• Модуль термообработки;
• Блок электрический;
• Система управления установкой;
• Система подачи проявителя;
• Емкость для проявителя;
• Станина.

ФУНКЦИОНАЛЬНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ И ОСОБЕННОСТИ:

• Проявление фоторезиста на пластине (сканирование);
• Промывка поверхности пластин деионизованной водой после операции проявления;
• Отмывка обратной стороны;
• Сушка пластин методом центрифугирования;
• Термообработка фоторезиста после проявления – «контакт или зазор».
• Установка выполнена в соответствии с ГОСТ 12.2.003, ГОСТ 12.2.007.0., соответствует требованиям эксплуатации в помещениях класса Р(10)100 («чистое помещение» класса 5 ИСО по ГОСТ Р ИСО 14644-1-2002).

ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ: