НАЗНАЧЕНИЕ:
Кластерные линии предназначены для индивидуальной жидкостной химической обработки пластин диаметром 150-200мм в составе:
А) Модульный комплекс индивидуальной жидкостной обработки пластин;
Б) Модуль подготовки и подачи технологических сред.
А) СОСТАВ МОДУЛЬНОГО КОМПЛЕКСА ИНДИВИДУАЛЬНОЙ ЖИДКОСТНОЙ ОБРАБОТКИ ПЛАСТИН:
1) Модуль индивидуальной химической обработки пластин методом погружения/объёмного спрея;
2) Модуль индивидуальной химической обработки пластин методом полива/поверхностного спрея;
3) Модуль индивидуальной отмывки пластин;
4) Модуль индивидуальной сушки пластин;
5) Модуль транспортный;
6) Модуль силовой.
Б) СОСТАВ МОДУЛЯ ПОДГОТОВКИ И ПОДАЧИ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ СРЕД:
1) Модуль подготовки и подачи технологических сред (для модуля индивидуальной химической обработки пластин методом погружения/объёмного спрея и модуля индивидуальной химической обработки пластин методом полива/поверхностного спрея);
2) Модуль подготовки и подачи растворов (для модуля индивидуальной отмывки пластин);
3) Модуль подготовки и подачи технологических сред (для модуля индивидуальной сушки пластин);
4) Модуль сбора отработанных растворов (для модуля индивидуальной химической обработки пластин методом погружения/объёмного спрея и модуля индивидуальной химической обработки пластин методом полива/поверхностного спрея);
5) Модуль силовой.
МОДУЛЬНЫЙ КОМПЛЕКС ИНДИВИДУАЛЬНОЙ ЖИДКОСТНОЙ ОБРАБОТКИ ПЛАСТИН:
НАЗНАЧЕНИЕ:
Кластер предназначен для осуществления индивидуальной жидкостной химической обработки пластин диаметром 150 и 200 мм в компоновке роботизированного кластера для выполнения операций химической очистки и отмывки пластин, активации поверхности, изотропного и анизотропного травления, химического удаления фоторезистивных масок, отмывки, сушки пластин, а также разработки базовых технологий процессов обработки.
ОСОБЕННОСТИ:
- Модульная конструкция;
- Кассетная загрузка пластин на кластерную линию;
- Выгрузка пластин из загрузочной кассеты;
- Ориентация пластин по базовому срезу и центрирование;
- Химическая двухсторонняя обработка пластин методом погружения/объемным спреем;
- Химическая односторонняя обработка методом полива /поверхностного спрея;
- Мегазвуковая очистка пластин с применением деионизованной воды и раствора;
- Гидромеханическая отмывка пластин щёткой с использованием деионизованной воды и раствора;
- Удаление капельной влаги с поверхности пластин ротационным способом;
- Сушка пластин с применением эффекта Марангони;
- Загрузка пластин в приемную кассету.
ХАРАКТЕРИСТИКИ |
Ед.изм. |
Значение |
Производительность* |
шт./ч |
25 ÷ 75
|
Количество модулей обработки |
шт. |
4 |
Диаметр обрабатываемых пластин |
шт. |
150, 200 |
Электропитание |
В, Гц |
380/220, 50 |
Масса |
кг |
1150 |
Габаритные размеры кластера, ДхШхВ |
мм |
2605х1800х2340 |
* В зависимости от конфигурации модулей |
ВЫПОЛНЯЕМЫЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ОПЕРАЦИИ:
МОДУЛЬ ПОДГОТОВКИ И ПОДАЧИ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ СРЕД:
НАЗНАЧЕНИЕ:
Модуль подготовки и подачи технологических сред Исп.1 предназначен для дозирования, фильтрации, смешивания и подачи жидких технологических сред для установки индивидуальной химической обработки пластин методом погружения/объемного спрея для двусторонней и односторонней жидкостной химической обработки пластин диаметром 100-150мм. Модуль подготовки и подачи технологических сред может использовать как в составе Кластера, так и самостоятельная установка подготовки и подачи сред.
ХАРАКТЕРИСТИКИ |
Ед.изм. |
Значение |
Диапазон регулирования температуры деионизованной воды |
°С |
20 ÷ 65 |
Количество формируемых технологических химических смесей |
шт. |
4 |
Количество дозирующих систем |
шт. |
4 |
Точность поддержания температуры химических смесей |
ºС |
± 5 |
Температура нагрева газообразного азота, мах |
ºС |
70 |
Производительность бокса подготовки и подачи деионизованной воды, мах |
л/ч |
300 |
Сеть переменного тока |
В, Гц |
380/220, 50 |
Потребляемая мощность модуля |
кВт |
≤ 50 |
Масса модуля |
кг |
≤ 900 |
Габаритные размеры модуля, ДхШхВ |
мм |
≤ 2700х1200х2000 |
Габаритные размеры бокса подготовки и подачи деионизованной воды, ДхШхВ |
мм |
≤ 900х800х2000 |
Габаритные размеры блока электропитания, ДхШхВ |
мм |
≤ 900х430х1400 |
СОСТАВ МОДУЛЯ ПОДГОТОВКИ И ПОДАЧИ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ СРЕД:
МОДУЛЬ ПОДГОТОВКИ И ПОДАЧИ РАСТВОРОВ:
(для модуля индивидуальной отмывки пластин)
НАЗНАЧЕНИЕ:
Модуль подготовки и подачи растворов ЩЦМ 3.248.023 предназначен для дозирования, фильтрации, смешивания и подачи растворов поверхностно-активных веществ (ПАВ), сжатого воздуха и деионизованной воды для модуля индивидуальной отмывки пластин ЩЦМ 3.190.118.
МОДУЛЬ ПОДГОТОВКИ И ПОДАЧИ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ СРЕД:
(для модуля индивидуальной сушки пластин с применением эффекта Марангони)
НАЗНАЧЕНИЕ:
Модуль подготовки и подачи технологических сред ЩЦМ 3.248.024 предназначен для дозирования, фильтрации, смешивания и подачи газообразных технологических сред для установки индивидуальной сушки пластин с применением эффекта Марангони.
МОДУЛЬ СБОРА ОТРАБОТАННЫХ РАСТВОРОВ:
(для модуля индивидуальной химической обработки пластин методом погружения/объемного спрея и модуля индивидуальной химической обработки пластин методом полива/поверхностного спрея)
НАЗНАЧЕНИЕ:
Модуль сбора отработанных растворов ЩЦМ 3.249.045 предназначен для откачки из буферных емкостей модуля индивидуальной химической обработки пластин методом погружения/объемного спрея.
ВАРИАНТЫ КОМПОНОВКИ КЛАСТЕРНЫХ КОМПЛЕКСОВ:
(X - наличие и количество модулей в составе каждого исполнения кластера)
Модули ЩЦМ |
3.240.613 |
3.249.041 |
3.190.125 |
3.029.036 |
3.557.404 |
3.733.137 |
3.248.022 |
3.248.023 |
3.248.024 |
3.249.045 |
Исполнение |
Исп. 1 |
Исп. 2 |
Исп. 1 |
X |
X |
X |
X |
X |
X |
|
X |
X |
X |
X |
Исп. 2 |
XX |
|
X |
X |
X |
X |
|
X |
X |
X |
X |
Исп. 3 |
|
XX |
X |
X |
X |
X |
|
X |
X |
X |
X |
Исп. 4 |
XX |
|
XX |
|
X |
|
X |
X |
X |
|
X |
Исп. 5 |
|
XX |
XX |
|
X |
|
X |
X |
X |
|
X |
Исп. 6 |
XXXX |
|
|
|
X |
|
X |
X |
|
|
X |
Исп. 7 |
|
XXXX |
|
|
X |
|
X |
X |
|
|
X |
Исп. 8 |
|
|
XXXX |
|
X |
X |
|
|
X |
|
|
Исп. 9 |
XX |
|
|
XX |
X |
X |
|
X |
|
X |
X |
Исп. 10 |
|
XX |
|
XX |
X |
X |
|
|
|
X |
|
Исп. 11 |
|
|
XX |
XX |
X |
|
X |
|
X |
X |
|
Исп. 12 |
XX |
X |
X |
|
X |
|
X |
X |
X |
|
X |
Исп. 13 |
XX |
X |
|
X |
X |
X |
|
X |
|
X |
X |
Исп. 14 |
X |
XX |
X |
|
X |
|
X |
X |
X |
|
X |
Исп. 15 |
X |
XX |
|
X |
X |
X |
|
X |
|
X |
X |