Установка двухсторонней индивидуальной отмывки фотошаблонов УОФ-127П

Оборудование разработано в рамках комплексного проекта «Разработка и организация производства кластерных линий фотолитографии с концепцией объединения всех операций формирования фоторезистивной маски в едином модуле» на основании Договора о предоставлении субсидии на возмещение части затрат на создание научно-технического задела по разработке базовых технологий производства приоритетных электронных компонентов и радиоэлектронной аппаратуры № 16411.1950168580.11.001 от 17 октября 2016 г."

НАЗНАЧЕНИЕ:

Полуавтоматическое проведение процесса двухсторонней отмывки фотошаблонов путем последовательной обработки поверхности. Ручная поштучная загрузка (выгрузка) фотошаблонов. Установка может быть оборудована зоной обеспыливания.

ФУНКЦИОНАЛЬНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ И ОСОБЕННОСТИ:

• Двухсторонняя очистка фотошаблонов в блоке гидромеханической очистки раствором и деионизованной водой;
• Двухсторонняя мегазвуковая очистка поверхности фотошаблона на центрифуге деионизованной водой;
• Двухсторонняя промывка на центрифуге деионизованной водой;
• Удаление капельной влаги центрифугированием;
• Сушка на «горячей плите» с гарантированным зазором;
• Многоуровневая система управления установкой позволяет проводить непрерывный мониторинг технологических параметров и осуществлять диагностику состояния механизмов и систем;
• Гибкое программирование технологического процесса;
• Возможность работы в ручном режиме позволяет осуществлять автономное включение и выключение каждого механизма установки, задавать режимы обработки, осуществлять подачу раствора, деионизованной воды и азота на обдув, устанавливать температуру на плитке, контролировать ее и осуществлять задание технологических программ обработки на установке;
• Установка соответствует требованиям эксплуатации в помещениях класса Р(10)100 («чистое помещение» класса 5 ИСО по ГОСТ Р ИСО 14644-1-2000).

ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ: