Для заказчика разработан и изготовлен полуавтомат плазмохимического удаления фоторезиста "Плазма-150МТ".
Установка предназначенна для для удаления фоторезистивных масок в технологии производства изделий электронной техники и МЭМС после операций формирования топологического рисунка, с пластин диаметром 100,150 мм. Плазмохимическая очистка поверхности металлических и металлокерамических изделий применяемых в электронной технике.
