НАЗНАЧЕНИЕ:
Кластерные линии фотолитографии, объединяющие операции формирования фоторезистивной маски для техно-логического процесса с проектными нормами до 0,35 ÷ 0,18 мкм на пластинах диаметром 150 и 200 мм, представляет собой высокотехнологичное оборудование для выполнения этапов очистки пластин, обработки промотором адгезии, нанесения фоторезиста, сушки, термостабилизации, проявления.
Состав кластерной линии фотолитографии для автономной работы (базовый вариант):
- модуль загрузки/разгрузки (4 кассеты) – 1 шт.;
- модуль нанесения фоторезиста – 1 шт.;
- модуль нанесения антиотражающего покрытия – 1 шт.;
- модуль проявления фоторезиста – 1 шт.;
- модуль мегазвуковой обработки – 1 шт.;
- модуль обработки в парах ГМДС – 1 шт.;
- модуль термообработки этажерочного типа (3 плиты) – 2 шт.;
- модуль термостабилизации этажерочного типа (3 плиты) – 2 шт.;
- транспортная система кластерной линии – центральный робот;
- станина для размещения модулей подачи ламинарного потока очищенного воздуха;
- блок задания технологических программ обработки и отображения информации о работе кластерной линии;
- блок управления работой кластерной линии;
- вспомогательное оборудование кластерной линии:
- блоки подготовки и подачи реагентов на рабочие позиции модулей;
- блоки термостабилизации фоторезиста и проявителя и контроля уровня;
- блок приёма и хранения отработанных реагентов.
Состав кластерной линии фотолитографии (для работы со степпером):
- модуль загрузки/разгрузки (4 кассеты) – 1 шт.;
- модуль нанесения фоторезиста – 1 шт.;
- модуль нанесения антиотражающего покрытия – 1 шт.;
- модуль проявления фоторезиста – 1 шт.;
- модуль мегазвуковой обработки – 1 шт.;
- модуль обработки в парах ГМДС – 1 шт.;
- модуль термообработки этажерочного типа (3 плиты) – 2 шт.;
- модуль термостабилизации этажерочного типа (3 плиты) – 2 шт.;
- транспортная система кластерной линии – центральный робот;
- станина для размещения модулей подачи ламинарного потока очищенного воздуха;
- блок задания технологических программ обработки и отображения информации о работе кластерной линии;
- блок управления работой кластерной линии;
- модуль транспортный (связь со степпером) - 1 шт.;
- вспомогательное оборудование кластерной линии:
- блоки подготовки и подачи реагентов на рабочие позиции модулей;
- блоки термостабилизации фоторезиста и проявителя и контроля уровня;
- блок приёма и хранения отработанных реагентов.
ОСОБЕННОСТИ:
- Кластер может работать в двух форматах - автономно и в связи со степпером, для чего имеет в своем составе модуль загрузки и автоматической связи со степпером. Фотолитографический кластер позволяет проводить операции по формированию слоя резиста перед экспонированием и операции проявления и задубливания резиста после экспонирования;
- Модульно-кластерные линии представляют собой набор стандартизованных технологических модулей, осуществляющих различные виды фотолитографической обработки, размещённых в контролируемой воздушной среде на общей несущей раме замкнутой конфигурации и объединённых единым транспортным устройством в виде специализированного робота, размещённого на линейном транспорте, для перемещения кремниевых пластин от модуля к модулю. Модульная структура обеспечивает быстрое извлечение технологических модулей, блоков и систем для ремонта и профилактического обслуживания;
- Благодаря модульному исполнению, конструктивно кластер может быть оптимально выстроен под задачи реализуемого технологического процесса и соответствует требованиям полной автоматизации. Кластерный принцип также распространяется и для технологических процессов обработки подложек из других материалов и с другими размерами и геометрией, что позволяет применять платформу как для прикладных исследований и разработок, так и для серийного выпуска продукции.
СОСТАВ КЛАСТЕРНОЙ ЛИНИИ ФОТОЛИТОГРАФИИ:
ВАРИАНТ РАЗМЕЩЕНИЯ КЛАСТЕРНОГО КОМПЛЕКСА НА ПРОИЗВОДСТВЕННЫХ ПЛОЩАДЯХ:
СОСТАВ МОДУЛЬНОГО КОМПЛЕКСА ФОТОЛИТОГРАФИИ:
ВЫПОЛНЯЕМЫЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ОПЕРАЦИИ:
