Установка сушки и задубливания фоторезиста УСЗФ-153А

Оборудование разработано в рамках комплексного проекта «Разработка и организация производства кластерных линий фотолитографии с концепцией объединения всех операций формирования фоторезистивной маски в едином модуле» на основании Договора о предоставлении субсидии на возмещение части затрат на создание научно-технического задела по разработке базовых технологий производства приоритетных электронных компонентов и радиоэлектронной аппаратуры № 16411.1950168580.11.001 от 17 октября 2016 г."

НАЗНАЧЕНИЕ:

Сушка резиста на шаблонных подложках после операции нанесения фоторезиста и задубливания резиста после операции проявления.

ОСОБЕННОСТИ:

• Обработка подложек по принципу из «кассеты в кассету»;
• Индивидуальная сушка и задубливание резиста на шаблонных подложках на «горячей плите»;
• Выгрузка подложек из кассеты, перенос в камеру, сушка (задубливание) и загрузка обработанных подложек в приемную кассету осуществляется автоматически по заданной программе, перед загрузкой в приемную кассету подложка охлаждается газообразным азотом;
• Многоуровневая система управления установкой позволяет проводить непрерывный мониторинг технологических параметров и осуществлять диагностику состояния механизмов и систем;
• Информация о режимах обработки (время, температура) отображается на экране дисплея;
• Возможно исполнение установки в упрощенном ручном варианте;
• Установка соответствует требованиям эксплуатации в помещениях класса Р5(100) («чистое помещение» класса ИСО 5 по ГОСТ Р ИСО 14644-1-2000).